Di pabrik pembuatan baterai tipe solid-state, proses pengolahan wafer baterai tidak memungkinkan adanya penyimpangan suhu yang signifikan. Jika suhu pengeringan berbeda sedikit saja, hal tersebut akan menyebabkan perbedaan kualitas permukaan wafer. Sebaliknya, jika suhu terlalu tinggi, maka struktur wafer akan rusak. Kami merancang alat pemanas inframerah khusus untuk memastikan suhu selama proses litografi dan pengeringan tetap berada dalam rentang yang ditentukan—baik itu untuk satu batch produksi maupun shift kerja yang berbeda.
Yang benar-benar penting adalah kemampuan kontrol yang dapat dibuktikan secara konkret. Sinar inframerah berenergi tinggi dapat menghangatkan lapisan tipis maupun substrat dengan cepat, dengan tingkat keseragaman suhu sebesar ±0,1°C di area aktif wafer. Tingkat repetitivitas suhu mencapai ±0,5°C antara setiap kali proses dilakukan, sehingga proses pengeringan fotoresist berjalan sesuai spesifikasi tanpa perlu dilakukan perbaikan ulang. Alat ini kompatibel dengan ruang bersih kelas 1–100, dan desain pemanasnya mencegah terbentuknya partikel selama proses berlangsung. Kami merancang alat ini agar dapat beroperasi 24/7, dengan data MTBF yang mendukung keandalannya serta jadwal pemeliharaan yang dapat diprediksi.
Alasan mengapa alat ini efektif adalah karena rentang suhu yang digunakan sangat sempit, dan waktu yang dibutuhkan untuk menyelesaikan proses produksi sangat penting. Dengan alat ini, proses pengeringan berlangsung lebih cepat, kontrol dimensi kritis lebih akurat, dan limbah akibat proses pengeringan yang berlebihan atau kurang pun berkurang. Penggunaan energi juga berkurang, karena sinar inframerah hanya menghangatkan objek yang menjadi target, bukan bagian sekitarnya. Rentang suhu pun menjadi lebih stabil, sehingga waktu operasional alat pun meningkat.
Sebagai catatan praktis: kinerja alat inframerah bergantung pada emisi dan reflektivitas bahan yang digunakan. Substrat yang dilapisi cat atau struktur berlapis membutuhkan proses penyesuaian suhu yang cepat agar hasilnya konsisten. Setelah proses penyesuaian dilakukan, sistem akan menjaga stabilitas suhu dengan minimal penyimpangan. Namun, proses penyesuaian awal ini sangat penting jika kita ingin mendapatkan hasil yang konsisten pada berbagai jenis bahan.