Di kilang pengeluaran bateri jenis solid-state ini, tiada ruang untuk berlakunya perubahan suhu yang ketara. Jika suhu semasa proses pembakaran tidak konsisten walaupun hanya sedikit, ia akan menyebabkan variasi pada struktur bateri tersebut. Sebaliknya, jika suhu terlalu tinggi semasa proses pembakaran, ia akan merosakkan struktur bateri tersebut. Kami telah mencipta pemanas inframerah khusus untuk memastikan suhu semasa proses litografi dan pengeringan tetap berada dalam julat yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.
Apa yang penting ialah kawalan yang boleh dibuktikan secara objektif. Cahaya inframerah berfrekuensi rendah dapat memindahkan tenaga dengan cepat ke lapisan tipis dan substrat yang digunakan, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C di kawasan aktif. Ketekunan suhu pula adalah sekitar ±0.5°C antara setiap kitaran proses. Dengan cara ini, proses pembakaran fotoresist dapat dilakukan dengan sempurna, tanpa perlu melakukan pembaikan ulang. Alat ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dan reka bentuk pemanasnya memastikan tiada zarah-zarah terhasil semasa operasi. Kami merancang agar alat ini dapat berfungsi 24/7, dengan data MTBF yang membuktikan kebolehpercayaannya serta waktu penyelenggaraan yang boleh diramalkan.
Alasan utama mengapa alat ini efektif ialah kerana jendela prosesnya sangat sempit, dan masa yang digunakan dalam proses pengeluaran sangat berharga. Dengan adanya alat ini, suhu dapat dikawal dengan lebih baik, dan jumlah bahan sisa akibat proses pembakaran yang berlebihan atau kurang dapat dikurangkan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana cahaya inframerah hanya memanaskan bahan yang dituju, bukan bahagian sekelilingnya. Dengan cara ini, jendela proses dapat diperluas tanpa perlu menghadapi masalah berkaitan kawasan panas atau sejuk, dan masa operasi pun bertambah baik kerana profil suhu tetap stabil walaupun menggunakan pelbagai jenis bahan.
Perlu diingat bahawa prestasi alat inframerah bergantung pada nilai emisi dan reflektiviti bahan yang digunakan. Substrat yang dilapisi atau lapisan pelbagai lapisan memerlukan ujian suhu awal untuk menentukan parameter yang sesuai. Setelah itu, sistem dapat mengekalkan profil suhu yang stabil, tanpa perlu penyesuaian lagi. Namun, ujian awal ini sangat penting agar hasil yang diperoleh konsisten untuk semua jenis bahan.