Na linha de produção de wafer de baterias de estado sólido, não há espaço para variações térmicas. Um processo de aquecimento inadequado, mesmo que seja de apenas um grau, já pode causar variações na qualidade do produto. Por outro lado, um aquecimento excessivo pode danificar o produto. Construímos nossos aquecedores de infravermelho para manter a temperatura dentro dos limites toleráveis durante todo o processo de produção, lote após lote, turno após turno.
O que realmente importa é o controle preciso sobre as condições térmicas. Os raios infravermelhos de onda curta transferem energia rapidamente para os filmes finos e substratos, com uma uniformidade de temperatura de ±0,1°C na área ativa do wafer. A repetibilidade da temperatura é de ±0,5°C entre diferentes execuções do processo. Assim, os processos de aquecimento necessários – seja ele suave ou intenso – são realizados dentro das especificações exigidas, sem necessidade de retrabalho. A ferramenta é compatível com salas limpas de classe 1 a 100, e seu design garante que não haja geração de partículas durante o funcionamento. Foi projetada para operar 24/7, com dados de confiabilidade que permitem longos períodos de uso e manutenção previsível.
A vantagem deste sistema é que o intervalo de temperatura é muito restrito, e o tempo gasto na produção é caro. O sistema permite um aquecimento mais rápido até o ponto desejado, além de um controle preciso das dimensões críticas do produto. Além disso, há menos desperdício devido a excesso ou insuficiência de calor durante o processo. O consumo de energia diminui, pois o infravermelho aquece apenas o objeto alvo, e não toda a estrutura ao redor dele. Isso permite que o processo funcione de maneira eficiente, sem problemas relacionados a pontos quentes ou frios. A disponibilidade do equipamento também aumenta, já que o perfil térmico permanece estável, independentemente da combinação de materiais utilizados.
Um detalhe importante: o desempenho do sistema infravermelho depende da emissividade e da refletividade do material. Substratos revestidos e estruturas multicamadas exigem um processo de calibração térmica inicial para ajustar as condições ideais. Uma vez feito isso, o sistema mantém o perfil térmico estável, mas essa calibração inicial é essencial para obter resultadosconsistentes em diferentes materiais.