На производственном участке даже небольшое изменение температуры в размере 0,1°C во время обработки фоторезиста может привести к смещению критических размеров изделий на несколько нанометров. Это уже не является допустимой погрешностью – это причина для отказа изделия. Мы разработали лампы с коротковолновым инфракрасным излучением, чтобы исключить такую неопределенность. Благодаря этому степень однородности поверхности пластины соответствует заданным параметрам, а не является чем-то случайным.
Ядро лампы представляет собой источник коротковолнового инфракрасного излучения; оно выбрано потому, что способно быстро нагревать объекты с низкой тепловой инерцией. Максимум излучения совпадает с спектром поглощения фоторезиста, поэтому энергия поступает в сам слой фоторезиста, а не в носители заряда. Таким образом, степень однородности поверхности пластины остается на уровне ±0,1°C даже при использовании подложек размером 150/200/300 мм. Стабильность температуры составляет менее 0,5°C во время процесса нагрева.
Кварцевая оболочка и конструкция отражателя спроектированы таким образом, чтобы свести к минимуму образование частиц, что позволяет сохранять стабильный уровень частиц в чистых помещениях класса 1–100. Работоспособность лампы сохраняется более 5000 часов, при этом уровень интенсивности излучения снижается менее чем на 5%.
В литографических установках это означает более точный контроль температуры во время процесса обработки, меньше дефектов и возможность точного контроля размеров изделий. Более быстрый процесс нагрева и охлаждения позволяет увеличить производительность без увеличения энергопотребления. Энергопотребление снижается, поскольку лампа нагревает именно объект обработки, а не всю комнату вокруг него.
Надежность устройства обеспечивается за счет возможности его круглосуточной работы. Модули можно заменять в процессе эксплуатации, что позволяет избежать простоев линии.
Установка устройства происходит легко на стандартные кронштейны, но необходимо обращать внимание на правильную ориентацию оптических элементов и на защиту от электромагнитных помех в чувствительных зонах. Устройство можно подключить к существующим системам контроля температуры и запирания, после чего необходимо проверить параметры процесса обработки с учетом особенностей используемого фоторезиста.
Необходимо регулярно проверять отражатели и чистить кварцевую оболочку. Только так можно сохранять стабильную степень однородности поверхности пластины на протяжении многих лет, а не только нескольких кварталов.