MEMS hattında, sıcaklık varyansı sadece bir parametre değil—verim düşürücü bir faktördür. Litografi sırasında, yumuşak veya sert pişirme sıcaklığınız bir derece kadar bile saparsa, kritik boyutları wafer üzerinde yayar ve cihazları izlerden çıkmadan hurdaya çıkarırsınız. Bu gerçeklik için kızılötesi ısıtıcımızı geliştirdik.
Önemli olan, temiz bir şekilde sunulan tekrarlanabilir ısıdır. Kısa dalga kızılötesi verici dizimiz enerjiyi doğrudan wafer’a hızlı bir şekilde ileterek termal gecikmeyi en azda tutar. Sıcak bölge boyunca, wafer seviyesinde ±0.1°C içinde uniformite sağlıyoruz, böylece her fotoğrafik reçine pişirmesi termal bütçeyi aşmadan gerçekleşir.
Isıtıcı gövdesi, sınıf 1-100 temiz odalar için tasarlanmış kuvars ve yüksek saflıkta seramiktir. Ramp-up sırasında parçacık patlaması yoktur ve sıcak yüzey, kontaminasyonu dışarıda tutmak için işlem hava akımından izole kalır. Sonuç, stabil, öngörülebilir ve partiden partiye aktarılabilir fotoğrafik reçine profilleridir.
Kontrol, sizi çalışır durumda tutan unsurdur. Alt saniye sıcaklık tepkisi, döngü süresini kısaltır ve wafer’ın yüksek sıcaklıkta bekleme süresini azaltır. Enerji kullanımı azalır çünkü ısı talep üzerine gelir ve bekleme kaybı minimumdur. Sistem, plansız duraklamalar olmadan 24/7 çalışır ve verici ömrü, çıkış sapması olmadan 5,000+ saat destekler—yedek parçalar azalır, bakım süreleri kısalır. Daha iyi tekrarlanabilirlik, CD kontrolünü sıkılaştırır ve hurdayı azaltır.
Kızılötesi ısı, doğrudan görünürdür. Montaj hizalaması ve yansıtıcı geometrisi, odanın ve wafer yolunun uyumlu olması gerekir. Boyutsal şablonlar ve termal boşluk haritaları sağlıyoruz, ancak entegrasyon müzakere edilemez. Mekanik hacmi ve soğutma yolunu erken planlayın, böylece ısıtıcı, sürecin talep ettiği hassasiyeti sağlar.