Hãy ngừng chờ đợi nữa: Tại sao việc sử dụng phương pháp làm nóng bằng tia hồng ngoại lại là giải pháp tốt nhất
Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp làm nóng bằng không khí nóng trong quy trình xử lý chất bán dẫn, thì bạn thực chất đang lãng phí một nửa thời gian của mình vào việc chờ đợi.
Hãy tưởng tượng cách hoạt động của không khí nóng: Bạn làm nóng không khí trước, sau đó mới dùng không khí đó để làm nóng các tấm wafer. Đó là một quy trình kém hiệu quả. Giống như việc cố gắng làm ấm một căn phòng bằng cách thổi gió từ máy sấy tóc vào tường vậy.
Phương pháp làm nóng bằng tia hồng ngoại thì khác. Nó sử dụng năng lượng bức xạ để làm nóng trực tiếp các tấm wafer, không cần thông qua không khí. Không cần chờ đợi nữa.
Chi phí thực sự của việc chờ đợi
Bất kỳ ai từng làm việc trong môi trường này đều hiểu rõ cảm giác chờ đợi này. Bạn thiết lập nhiệt độ mong muốn, rồi lại phải chờ đợi. Với phương pháp làm nóng bằng tia hồng ngoại, bạn có thể đạt được nhiệt độ mong muốn trong vài giây thôi. Điều này giúp rút ngắn thời gian xử lý đáng kể. Điều này rất quan trọng trong quá trình xử lý hoặc loại bỏ khí trong các tấm wafer. Nếu bạn không thể tăng nhiệt độ ngay lập tức, bạn sẽ gặp rủi ro làm biến dạng các tấm wafer, và lúc đó bạn sẽ gặp rất nhiều vấn đề.
Những điểm cần lưu ý (vì không có gì là hoàn hảo cả)
Điểm tốt nhất của phương pháp này là kích thước của thiết bị. Bạn có thể loại bỏ những chiếc quạt lớn và ồn ào, cũng như các đường ống dẫn khí phức tạp. Bạn chỉ cần kết nối các bóng đèn lại với nhau, điều chỉnh khoảng cách phù hợp, và mọi thứ sẽ hoạt động tốt.
Tuy nhiên, bạn cần cẩn thận. Vì tia hồng ngoại có tốc độ làm nóng rất nhanh, nên dễ gây ra tình trạng quá nhiệt. Nếu các bóng đèn không được đặt ở vị trí chính xác, bạn sẽ gặp phải tình trạng quá nhiệt ở một số vùng nhất định. Bạn cũng cần sử dụng bộ điều khiển PID để kiểm soát nhiệt độ một cách hiệu quả. Nếu không, bạn sẽ vô tình vượt quá nhiệt độ mong muốn trước khi kịp nhận ra.
Tại sao mọi người đều chuyển sang sử dụng phương pháp này
Điều quan trọng nhất chính là tốc độ mà bạn có thể đạt được từ nhiệt độ phòng lên nhiệt độ mong muốn. Ngoài ra, phương pháp này giúp tạo ra nhiệt độ đồng đều hơn trên toàn bộ bề mặt tấm wafer. Bạn không cần phải đối mặt với dòng khí không ổn định hay lãng phí điện năng để làm nóng phần khung kim loại của máy móc. Bạn có thể sử dụng năng lượng một cách hiệu quả nhất.
Nếu dây chuyền sản xuất của bạn vẫn sử dụng lò nướng kiểu thông gió bằng không khí, bạn đang lãng phí tiền bạc. Việc chuyển sang sử dụng phương pháp làm nóng bằng tia hồng ngoại không phải là việc nâng cấp kỹ thuật phức tạp – đó là cách giúp tăng tốc độ xử lý các tấm wafer. Kết quả là sản lượng tăng lên, chi phí trên mỗi tấm wafer giảm xuống, và bạn cũng không cần phải chờ đợi lâu nữa.