http://ir-heat-element-corp.com/cs/tags/teplota/ Recent content in Teplota on Infrared Heat Element Corporation Hugo cs Fri, 24 Jul 2026 11:38:36 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/cs/posts/reducing-carbon-footprint-in-semiconductor-manufacturing-via-precision-ir-heating-and-sensing/ Fri, 24 Jul 2026 11:38:36 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/cs/posts/reducing-carbon-footprint-in-semiconductor-manufacturing-via-precision-ir-heating-and-sensing/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Senzor teploty pro nástroj na válcech"></p> <h1 id="správné-zahřívání-výfukových-desek-aniž-byste-plývali-energií">Správné zahřívání výfukových desek (aniž byste plývali energií)</h1> <p><a href="https://o-yate.com">Pokud</a> se snažíte dosáhnout u své továrny uhlíkové neutrality, musíte vzít v úvahu svůj tepelný rozpočet. Starý způsob – použití <a href="https://henruite.com">rezistorov</a>ých pecí – je v podstatě jako zahřívání celého domu jen proto, abyste ohřáli jednu plátek pizzy. Je to plýtvání.</p> <p>Proto jsme přešli na krátkovlnné IR topné lampy. Místo zahřívání celé komory tyto lampy působí přímo na povrch výfukové desky. Jednoduché. Efektivní.</p> <h2 id="kouzlo-rychlého-tepelného-zpracování">Kouzlo rychlého tepelného zpracování</h2> <p>Tyto IR lampy mají obrovskou sílu. Používáme halogenové vlákna uvnitř kvartových obalů, která dokážou dosáhnout teploty až 1 000 °C během několika sekund.</p> http://ir-heat-element-corp.com/cs/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/ Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/cs/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Vysokoteplotní pec pro Fab Lab"></p> <p>V <a href="https://henruite.com">laborato</a>ři určené k výrobě polovodičů není proces zahřívání fotorezistoru jen „dobrou volbou“ – jedná se o klíčový faktor pro udržení správných rozměrů součástek. I několik stupňů odchylek nebo místa s vyšší teplotou na povrchu čipu mohou způsobit, že hranice přesnosti litografického procesu zmizí. Vytvořili jsme tento pece s vysokou teplotou právě proto, aby tento proces probíhal plynule, opakovaně.</p> <p><strong>Co je opravdu důležité</strong><br> Dosahujeme tepelné jednotnosti na úrovni čipu ve výši ±0,1 °C po celém rozsahu teploty. Hodnota teploty zůstává stabilní i za situace, kdy je v peci naložen materiál. Horká oblast pecí využívá kvartz a krátkovlnné infračervené zahřátí – díky tomu jsou procesy rychlé a reprodukovatelné. Profily zahřívání fungují stejně v každém cyklu.</p>