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		<title>IR on Infrared Heat Element Corporation</title>
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				<title>Präziser IR Sensor für Wafer</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/de/posts/reducing-time-costs-in-semiconductor-wafer-processing-ir-heating-vs-forced-air-convection/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Präziser IR Sensor für Wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Warum wir bei der Waferverarbeitung auf gezwungenes Luftheizen verzichten&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wer bereits Erfahrung in der Halbleiterverarbeitung hat, kennt die Frustration, die damit einhergeht – insbesondere das Warten darauf, dass das Wafer durch heiße Luft die richtige Temperatur erreicht.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Das Problem ist: Gezwungenes Luftheizen ist einfach zu langsam. Man bläst schließlich nur heiße Gase umher und hofft, dass diese effektiv auf das Wafer übertragen werden. Dadurch entsteht eine lästige Zeitverzögerung, die den Arbeitsablauf beeinträchtigt.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dagegen nutzt das IR-Heizen elektromagnetische Strahlung, um direkt auf das Wafer einzuvirken. &lt;strong&gt;Es ist wie der Unterschied zwischen dem Versuch, sich die Hände mit einer warmen Brise zu erwärmen, und dem Stehen direkt vor &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;einem&lt;/a&gt; Lagerfeuer.&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;</description>
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