Infrarotheizer für Vakuumkammern

Thu, 02 Jul 2026 08:50:54 +0800

In einem Reinraum der Klasse 1 wird die 300-mm-Wafer auf die Heplatte gelegt. Die Eigenschaften des Photoresists werden durch die Temperatur bestimmt – und nicht durch willkürliche Annahmen. Eine Abweichung von 2°C an der Oberfläche kann dazu führen, dass die Schichten auf der Waferoberfläche verformt werden – mit dem Ergebnis, dass die Arbeit eines ganzen Wochenendes zunichte gemacht wird. Deshalb haben wir einen Infrarotheizer in die Vakuumkammer eingebaut, um diese Unsicherheiten auszuschließen.

Was wirklich wichtig ist
Der Heizer verwendet Kurzwellenquarzemitter zur Erzeugung direkter Strahlungswärme – mit einer Reaktionszeit von Millisekunden. In der aktiven Zone bleibt die Homogenität der Temperaturen bei ±0,1°C, und die Wiederholgenauigkeit zwischen den einzelnen Prozessschritten liegt bei 0,05°C. Der Körper der Vakuumkammer besteht aus elektropoliertem 316L-Stahl; dadurch wird das Austreten von Gasen reduziert. Die Vakuumkammer ist außerdem für ein Vakuum von bis zu 10^-6 mbar geeignet. Durch die konstruktiven Merkmale, die für Reinräume geeignet sind, bleibt die Teilchengenerierung auf Null – selbst nach 5.000 Stunden Betrieb bei 250°C. Integrierte Pyrometrie-Systeme sowie eine geschlossene Regelung sorgen dafür, dass die gewünschten Temperaturen beibehalten werden.

Kammer on Infrared Heat Element Corporation

Infrarotheizer für Vakuumkammern