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		<title>Lithografie on Infrared Heat Element Corporation</title>
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				<title>Lampe für die Halbleiterlithografie Öfen</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lampe für die Halbleiterlithografie Öfen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Fertigungsprozess reicht bereits eine &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Temperatur&lt;/a&gt;ä&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;nderung&lt;/a&gt; von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Photoresists aus, um einen ganzen Produktionslot unbrauchbar zu machen. Man braucht keine unkontrollierte Wärmequelle – man braucht eine Wärmequelle, die sich vorhersagbar verhält.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was technisch wichtig ist:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Unsere Lithografieöfen nutzen Infrarotstrahlung mit präziser Spektralkontrolle – genau dort, wo der Photoresist die Strahlung aufnimmt. Dadurch kommt es zu einer schnellen Erwärmung der Oberfläche. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur im Trocknungsbereich liegt bei ±0,1 °C. Zudem bleibt die Reproduzierbarkeit von Batch zu Batch konstant.&lt;/p&gt;</description>
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