<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>MEMS on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/de/tags/mems/</link>
		<description>Recent content in MEMS on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 07 Jun 2026 03:53:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/de/tags/mems/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>MEMS Fertigung Infrarotheizung</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/de/posts/mems-fabrication-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 03:53:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/de/posts/mems-fabrication-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;MEMS Fertigung Infrarotheizung&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der MEMS-Linie ist die Temperaturabweichung nicht nur ein Parameter – sie reduziert die Ausbeute. In der Lithographie führt selbst eine Abweichung von Bruchteilen eines Grades beim Soft Bake oder Hard Bake dazu, dass sich kritische Dimensionen über die Waferfläche verteilen und Bauteile aussortiert werden, noch bevor sie den Track verlassen. Genau für diese Anforderungen haben wir unseren Infrarot-Heizer entwickelt.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Entscheidend ist reproduzierbare Wärme mit konstanter Qualität. Unser Kurzwelliger Infrarotstrahler-Array liefert Energie schnell direkt in den Wafer, wodurch die thermische Verzögerung minimal bleibt. Im Hot Zone Bereich halten wir die Wafer-Temperatur innerhalb von ±0,1°C konstant, sodass jeder Fotolack-Bake die thermische Zielvorgabe ohne Randabweichungen erfüllt.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
