Ofen on Infrared Heat Element Corporation

Ofen mit Infrarotheizung für Reinräume

Mon, 20 Jul 2026 11:38:13 +0800

Sicherstellen der Sicherheit in Bereichen mit chemischen Reinigungsmitteln
Seien wir ehrlich: Den Ofen in einem Raum mit chemischen Reinigungsmitteln zu nutzen, ist wie mit Feuer zu spielen. Wenn brennbare Lösungsmittel sowie explosive Dämpfe in der Luft schweben, ist eine herkömmliche Infrarotlampe nicht nur eine schlechte Wahl – sie stellt sogar eine Gefahr dar. Schon ein kleiner Funke kann zu ernsthaften Problemen führen.

Deshalb bauen wir unsere Infrarotheizer mit einer speziellen Hülle aus. Auf diese Weise werden die elektrischen Komponenten von der umgebenden Luft abgeschirmt.

Hoche Temperaturofen für Fab Lab

Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800

Im Fab-Lab ist das Erhitzen des Fotoleitmittels keine „optionalen“ Maßnahme – es handelt sich dabei vielmehr um einen entscheidenden Schritt zur Gewährleistung der erforderlichen Dimensionen. Ein paar Grad Abweichung oder Hotspots auf der Wafer-Oberfläche führen dazu, dass die Vorgaben für die Lithografie nicht mehr eingehalten werden können. Wir haben diesen Hochtemperaturofen entwickelt, um diese Bedingungen bei jedem Betrieb zu gewährleisten.

Was wirklich wichtig ist: Es wird eine thermische Homogenität von ±0,1 °C über den gesamten Temperaturbereich erreicht. Zudem bleibt die Einstelltemperatur konstant, auch wenn Lasten im Ofen vorhanden sind. Die Heizung erfolgt mittels Quarz und kurzwelliger Infrarotstrahlung – dadurch sind die Temperaturänderungen schnell und reproduzierbar. Sowohl sanfte als auch intensive Heizvorgänge führen zu denselben Ergebnissen, mal nach dem anderen.

Lampe für die Halbleiterlithografie Öfen

Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800

Im Fertigungsprozess reicht bereits eine Temperaturänderung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Photoresists aus, um einen ganzen Produktionslot unbrauchbar zu machen. Man braucht keine unkontrollierte Wärmequelle – man braucht eine Wärmequelle, die sich vorhersagbar verhält.

Was technisch wichtig ist:
Unsere Lithografieöfen nutzen Infrarotstrahlung mit präziser Spektralkontrolle – genau dort, wo der Photoresist die Strahlung aufnimmt. Dadurch kommt es zu einer schnellen Erwärmung der Oberfläche. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur im Trocknungsbereich liegt bei ±0,1 °C. Zudem bleibt die Reproduzierbarkeit von Batch zu Batch konstant.