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		<title>Litografía on Infrared Heat Element Corporation</title>
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				<title>Lámpara de horno para litografía de semiconductores</title>
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				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lámpara de horno para litografía de semiconductores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de fabricación, un cambio de temperatura de 0,5°C durante el proceso de secado del fotoreactivos es suficiente para convertir todo un lote en material desperdiciado. No se &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;necesita&lt;/a&gt; un calor impredecible; se necesita un calor que funcione de manera consistente.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;¿Qué es importante desde el punto de vista técnico?&lt;/strong&gt;&#xA;Las lámparas de nuestros hornos de litografía emiten radiación infrarroja de onda corta, con un control espectral muy preciso, justo en las zonas donde el fotoreactivos es absorbido. Esto permite un calentamiento rápido y uniforme de la superficie. La uniformidad a nivel de wafer se mantiene dentro de los ±0,1°C en toda la zona de calentamiento, y la repetibilidad es alta entre diferentes lotes.&lt;/p&gt;</description>
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