Lámpara de calentamiento del analizador térmico

Sun, 21 Jun 2026 06:23:41 +0800

En el área de procesamiento, un cambio de 1°C durante el proceso de secado suave es suficiente para que las dimensiones críticas cambien en nanómetros. Eso no representa una tolerancia aceptable; se trata de un problema relacionado con la calidad del producto final. Por eso, cuando realizamos procesos térmicos, no queremos depender de estimaciones aleatorias. Necesitamos precisión, y eso es exactamente lo que ofrece esta lámpara de calentamiento.

Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico El sistema utiliza lámparas infrarrojas de onda corta, equipadas con elementos de cuarzo de respuesta rápida. Esto permite que el calor llegue directamente a la superficie de la película y del wafer. La uniformidad de temperatura en toda la superficie del sustrato se mantiene dentro de los ±0.1°C, y la repetibilidad es muy alta. En salas limpias de clase 1–100, el diseño de la lámpara asegura que no haya generación de partículas, gracias a sus componentes herméticos y a su sistema de baja emisión de gases. La lámpara funciona 24/7, con un control preciso de la temperatura. Las unidades han funcionado más de 5,000 horas sin que disminuya su rendimiento en más del 5%.

Térmico on Infrared Heat Element Corporation

Lámpara de calentamiento del analizador térmico