<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>منطقهبندیشده on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/fa/tags/%D9%85%D9%86%D8%B7%D9%82%D9%87%D8%A8%D9%86%D8%AF%DB%8C%D8%B4%D8%AF%D9%87/</link>
		<description>Recent content in منطقهبندیشده on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:50:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/fa/tags/%D9%85%D9%86%D8%B7%D9%82%D9%87%D8%A8%D9%86%D8%AF%DB%8C%D8%B4%D8%AF%D9%87/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ماژول گرمایش مادون قرمز با مناطق مشخص شده</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/fa/posts/zoned-infrared-heating-module/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:50:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/fa/posts/zoned-infrared-heating-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;ماژول گرمایش مادون قرمز با مناطق مشخص شده&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، تغییر دما در حد ۰.۲ درجه سانتی‌گراد در هنگام پختن فوتورزیست، می‌تواند باعث اختلال در کنترل عرض خطوط روی ویفر شود و در نتیجه باعث کاهش بازدهی تولید شود. ابزارهای گرمایشی معمولی سعی می‌کنند تا یکنواختی دما در سراسر ویفر را حفظ کنند؛ اما روش گرمایش با استفاده از امواج مادون قرمز، راه‌حل مناسبی برای این مشکل است.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;چه چیزی اهمیت دارد؟&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ماژول گرمایشی مادون قرمز ما، از اجزای کنترل‌شده به صورت جداگانه برای تنظیم دما در نواحی مختلف استفاده می‌کند؛ این کار باعث اصلاح تفاوت‌های دمایی در نواحی مختلف ویفر می‌شود. در نتیجه، یکنواختی دما در سراسر ویفر در حد ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد خواهد بود؛ همچنین، قابلیت تکرارپذیری این ماژول آنقدر خوب است که امکان انجام مراحل حساس پختن ویفر در شرایط مشخص، فراهم می‌شود. این سخت‌افزار برای استفاده در اتاق‌های پاک با کلاس ۱ تا ۱۰۰ طراحی شده است؛ یعنی از موادی با میزان گاز خروجی کم، لنزهای دربسته، و ساختارهایی که از ورود ذرات جلوگیری می‌کنند، استفاده شده است. انتظار می‌رود که در هنگام پختن، هیچ ذره‌ای تولید نشود؛ همچنین، پایداری حرارتی این ماژول آنقدر خوب است که عملکرد ویفر در شرایط مختلف، یکنواخت باقی بماند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
