<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Furnace on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/fa/tags/furnace/</link>
		<description>Recent content in Furnace on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/fa/tags/furnace/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>فر با دمای بالا برای لابوراتوی تولید</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/fa/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/fa/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;فر با دمای بالا برای لابوراتوی تولید&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در اتاق‌های فاب‌لاب، فرآیند گرم کردن رزیست فوتوگرافیک، چیزی تختصصی نیست؛ بلکه یک روش حیاتی برای کنترل ابعاد مهم قطعات است. حتی تغییرات جزئی در دما، یا وجود نقاط گرم در سطح ویفر، می‌تواند باعث از بین رفتن دقت فرآیند لیتوگرافی شود. ما این فر در دمای بالا را طوری طراحی کرده‌ایم که بتواند این کنترل‌ها را در هر بار استفاده حفظ کند.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;آنچه واقعاً اهمیت دارد&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;در کل محدوده دمایی مورد نیاز، یکنواختی دمایی در سطح ویفر به میزان ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد حاصل می‌شود؛ همچنین، پایداری دما حتی در حالتی که بار روی فر قرار دارد، نیز حفظ می‌شود. منطقه گرم، از کوارتز و حرارت مادون قرمز برای گرم کردن استفاده می‌کند؛ بنابراین، فرآیند گرم کردن سریع و قابل تکرار است. الگوهای گرم کردن مختلف نیز در هر بار تکرار، نتایج یکسانی خواهند داشت.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
