http://ir-heat-element-corp.com/hi/tags/%E0%A4%AA%E0%A5%8D%E0%A4%B0%E0%A4%AF%E0%A5%8B%E0%A4%97%E0%A4%B6%E0%A4%BE%E0%A4%B2%E0%A4%BE/ Recent content in प्रयोगशाला on Infrared Heat Element Corporation Hugo hi Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/hi/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/ Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/hi/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="फैब लैब के लिए उच्च तापमान वाला भट्ठी"></p> <p>फैब-लैब में, फोटोरेसिस्ट को गर्म करना कोई वैकल्पिक प्रक्रिया नहीं है; बल्कि यही वह प्रक्रिया है जो चिप के महत्वपूर्ण आयामों को सुनिश्चित करती है। थोड़ा सा भी तापमान-परिवर्तन, वेफर पर कहीं भी गर्म बिंदु होने से लिथोग्राफी प्रक्रिया विफल हो जाती है। हमने ऐसा उच्च-तापमान वाला फर्नेस बनाया है, ताकि ऐसी स्थितियों से बचा जा सके।</p> <p><strong>वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> पूरे गर्मी-उपचार के दौरान वेफर पर तापमान की स्थिरता ±0.1°C तक होती है। फर्नेस में क्वार्ट्ज एवं शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड तकनीक का उपयोग किया गया है; इससे तापमान-परिवर्तन तेज़ एवं नियंत्रित रहता है। “सॉफ्ट बेक” एवं “हार्ड बेक” दोनों ही प्रक्रियाओं में परिणाम समान ही रहता है।</p>