http://ir-heat-element-corp.com/hi/tags/%E0%A4%B2%E0%A4%BF%E0%A4%A5%E0%A5%8B%E0%A4%97%E0%A5%8D%E0%A4%B0%E0%A4%BE%E0%A4%AB%E0%A5%80/ Recent content in लिथोग्राफी on Infrared Heat Element Corporation Hugo hi Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/hi/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/ Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/hi/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="अर्धचालक लिथोग्राफी ओवन लैंप"></p> <p>फैब फ्लोर पर, फोटोरेजिस्ट को सुखाने की प्रक्रिया में केवल 0.5°C का अंतर ही पूरे उत्पाद को बेकार बना सकता है। ऐसी स्थिति में अनियमित तापमान की कोई आवश्यकता नहीं है; बल्कि ऐसा तापमान ही आवश्यक है जो नियंत्रित रहे।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हमारे लिथोग्राफी ओवनों में उपयोग होने वाले लैंप, संकीर्ण-तरंगदैर्घ्य वाला इन्फ्रारेड प्रकाश उत्पन्न करते हैं; ऐसा प्रकाश ठीक उसी जगह पहुँचता है जहाँ फोटोरेजिस्ट अवशोषित होता है। इससे सतह पर तेज़ एवं समान तापन होता है। बेकिंग क्षेत्र में तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है, एवं एक शॉट से दूसरे शॉट में, एक शिफ्ट से दूसरी शिफ्ट में भी तापमान समान ही रहता है।</p>