Forno on Infrared Heat Element Corporation

Forno per ambienti puliti _con riscaldatore a infrarossi

Mon, 20 Jul 2026 11:38:13 +0800

Mantenere tutto al sicuro nelle zone di lavaggio chimico
Siamo onesti: utilizzare un forno per ambienti puliti all’interno di una zona di lavaggio chimico è come giocare con il fuoco. Quando ci sono solventi infiammabili e vapori esplosivi nell’aria, una lampada a infrarossi standard non è solo una scelta sbagliata, ma rappresenta anche un rischio pericoloso. Basta una scintilla per creare seri problemi.

Ecco perché i nostri riscaldatori a infrarossi vengono costruiti con un involucro speciale. In pratica, isoliamo i componenti elettrici dall’aria circostante.

Forno ad alta temperatura per fab lab

Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800

Sul banco di lavoro del fab-lab, la cottura del fotoresistente non è qualcosa di “facoltativo”: è invece un passaggio fondamentale per garantire le dimensioni precise richieste. Anche pochi gradi di variazione di temperatura, o punti caldi sulla superficie del wafer, possono far sì che i parametri di litografia diventino inutilizzabili. Abbiamo progettato questo forno ad alta temperatura apposta per mantenere costanti questi parametri, ciclo dopo ciclo.

Cosa è davvero importante
Si ottiene un’omogeneità termica a livello del wafer pari a ±0,1°C nell’intero intervallo di cottura. Inoltre, il punto di regolazione della temperatura rimane stabile anche quando c’è un carico elevato sul forno. La zona di riscaldamento utilizza quarzo e radiazioni infrarosse a breve lunghezza d’onda, il che permette tempi di riscaldamento rapidi e ripetibili. I profili di cottura vengono applicati in modo costante, ciclo dopo ciclo.

Lampada per forno di litografia a semiconduttori

Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800

Nelle linee di produzione, un cambiamento di temperatura di soli 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotoresist è sufficiente per trasformare un intero lotto di prodotti in materiali non utilizzabili. Non è necessario un riscaldamento imprevedibile: serve invece un riscaldamento preciso e affidabile.

Ciò che è importante dal punto di vista tecnico
I nostri forni per la litografia emettono radiazioni infrarosse a lunghezza d’onda breve, con un controllo spettrale molto preciso, proprio dove avviene l’assorbimento dei raggi infrarossi da parte del fotoresist. Questo permette un riscaldamento rapido e uniforme della superficie del wafer. L’uniformità di temperatura all’interno della zona di riscaldamento rimane entro i limiti di ±0,1°C, mentre la ripetibilità dei risultati è garantita tra una sessione di lavorazione e l’altra.