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		<title>Litografia on Infrared Heat Element Corporation</title>
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				<title>Lampada per forno di litografia a semiconduttori</title>
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				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lampada per forno di litografia a semiconduttori&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nelle linee di produzione, un cambiamento di temperatura di soli 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotoresist è sufficiente per trasformare un intero lotto di prodotti in materiali non utilizzabili. Non è necessario un riscaldamento imprevedibile: serve invece un riscaldamento preciso e affidabile.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ciò che è importante dal punto di vista tecnico&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;I nostri forni per la litografia emettono radiazioni infrarosse a lunghezza d’onda breve, con un controllo spettrale molto preciso, proprio dove avviene l’assorbimento dei raggi infrarossi da parte del fotoresist. Questo permette un riscaldamento rapido e uniforme della superficie del wafer. L’uniformità di temperatura all’interno della zona di riscaldamento rimane entro i limiti di ±0,1°C, mentre la ripetibilità dei risultati è garantita tra una sessione di lavorazione e l’altra.&lt;/p&gt;</description>
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