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		<title>Temp on Infrared Heat Element Corporation</title>
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				<title>Forno ad alta temperatura per fab lab</title>
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				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Forno ad alta temperatura per fab lab&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sul banco di lavoro del fab-lab, la cottura del fotoresistente non è qualcosa di “facoltativo”: è invece un passaggio fondamentale per garantire le dimensioni precise richieste. Anche pochi gradi di variazione di temperatura, o punti caldi sulla superficie del wafer, possono far sì che i parametri di litografia diventino inutilizzabili. Abbiamo progettato questo forno ad alta temperatura apposta per mantenere costanti questi parametri, ciclo dopo ciclo.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa è davvero importante&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Si ottiene un’omogeneità termica a livello del wafer pari a ±0,1°C nell’intero intervallo di cottura. Inoltre, il punto di regolazione della temperatura rimane stabile anche &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;quando&lt;/a&gt; c’è un carico elevato sul forno. La zona di riscaldamento utilizza quarzo e radiazioni infrarosse a breve lunghezza d’onda, il che permette tempi di riscaldamento rapidi e ripetibili. I profili di cottura vengono applicati in modo costante, ciclo dopo ciclo.&lt;/p&gt;</description>
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