Mengapa Kami Menggantikan Penggunaan Udara Terpaksa dengan Kaedah Pemanasan IR dalam Proses Pemprosesan Wafer
Jika anda pernah terlibat dalam proses pemprosesan semikonduktor, pasti anda tahu betapa menyakitkannya menunggu. Secara khususnya, menunggu wafer mencapai suhu yang tepat menggunakan udara panas.
Masalahnya ialah penggunaan udara terpaksa sangat lambat. Anda hanya menghembuskan gas panas ke arah wafer, dengan harapan haba tersebut dapat diserap oleh wafer dengan efektif. Namun, cara ini menyebabkan kelewatan dalam proses pemanasan, sehingga merosakkan waktu kerja anda.
Sebaliknya, kaedah pemanasan IR menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan wafer secara langsung. Ia sama seperti perbezaan antara mencuba memanaskan tangan dengan mengibaskannya di angin hangat, berbanding berdiri betul-betul di depan api unggun.
Kepantasannya sangat menarik. Udara merupakan pengalir haba yang buruk. Apabila menggunakan kipas, anda perlu menunggu udara menjadi panas, dan kemudian menunggu haba tersebut diserap oleh wafer. Dengan lampu IR pula, tenaga panas sampai ke permukaan wafer dalam masa yang singkat.
Ini bermakna masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer dapat dikurangkan dari minit kepada saat sahaja. Dalam operasi kilang yang berjalan 24/7, penjimatan masa ini sangat penting. Anda dapat memproses lebih banyak wafer tanpa perlu membeli ruang yang lebih besar atau menambah mesin baru.
Selain itu, kawalan suhu menggunakan IR juga lebih baik. Kami menggunakan sensor IR untuk memantau suhu secara masa nyata. Thermocouple lama pula kurang efektif – ia memerlukan kontak fizikal dan reaksinya lambat. Sensor IR pula dapat mengesan emisi haba pada permukaan wafer. Jika ada masalah, anda boleh menyesuaikan kuasa pemanasan secara segera.
Ini membantu mengelakkan masalah “terlalu panas”, di mana bahagian tepi wafer menjadi hangus sementara bahagian tengahnya masih belum cukup panas.
Namun, ia bukanlah solusi yang mudah. Kaedah pemanasan IR menghasilkan haba yang sangat tinggi. Kepantasan ini bermakna haba yang dihasilkan sangat intensif, dan ia boleh merosakkan peralatan anda jika sistem penyejukan tidak cukup kuat. Anda mungkin akan merosakkan wafer atau komponen sensor jika sistem penyejukan tidak berfungsi dengan baik.
Anda perlu menghitung semula parameter termal sebelum menggunakan kaedah ini. Namun, bagi proses pemprosesan yang memerlukan kelajuan tinggi, ini merupakan cara yang paling efektif. Anda harus mengorbankan kesederhanaan penggunaan kipas demi kelajuan yang lebih tinggi. Dalam bisnes ini, kelajuanlah yang paling penting.