<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bateri on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/ms/tags/bateri/</link>
		<description>Recent content in Bateri on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 05:45:40 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/ms/tags/bateri/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk proses pengeluaran bateri jenis solid state</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/solid-state-battery-processing-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:45:40 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/solid-state-battery-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk proses pengeluaran bateri jenis solid state&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kilang pengeluaran bateri jenis solid-state ini, tiada ruang untuk berlakunya perubahan suhu yang ketara. Jika suhu &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;semasa&lt;/a&gt; proses pembakaran tidak konsisten walaupun &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;hanya&lt;/a&gt; sedikit, ia akan menyebabkan variasi pada struktur bateri tersebut. Sebaliknya, jika suhu terlalu tinggi semasa proses pembakaran, ia akan merosakkan struktur bateri tersebut. Kami telah mencipta pemanas &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;inframerah&lt;/a&gt; khusus untuk memastikan suhu semasa proses litografi dan pengeringan tetap berada dalam julat yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Apa yang penting ialah kawalan yang boleh dibuktikan secara objektif. Cahaya inframerah berfrekuensi rendah dapat memindahkan tenaga dengan cepat ke lapisan tipis dan substrat yang digunakan, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C di kawasan aktif. Ketekunan suhu pula adalah sekitar ±0.5°C antara setiap kitaran proses. Dengan cara ini, proses pembakaran fotoresist dapat dilakukan dengan sempurna, tanpa perlu melakukan pembaikan ulang. Alat ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dan reka bentuk pemanasnya memastikan tiada zarah-zarah terhasil semasa operasi. Kami merancang agar alat ini dapat berfungsi 24/7, dengan data MTBF yang membuktikan kebolehpercayaannya serta waktu penyelenggaraan yang boleh diramalkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
