http://ir-heat-element-corp.com/ms/tags/dapur-pembakar/ Recent content in Dapur Pembakar on Infrared Heat Element Corporation Hugo ms Mon, 20 Jul 2026 11:38:13 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/clean-room-oven-infrared-heater/ Mon, 20 Jul 2026 11:38:13 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/clean-room-oven-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Pemanas inframerah untuk oven di bilik bersih"></p> <h1 id="melindungi-barang-barang-di-zon-pencucian-bahan-kimia">Melindungi Barang-Barang di Zon Pencucian Bahan Kimia</h1> <p>Sejujurnya, <a href="https://o-yate.com">menggunakan</a> ketuhar di kawasan pencucian bahan kimia sama saja seperti bermain dengan api. Apabila terdapat pelarut yang mudah terbakar dan wap letupan di sekelilingnya, penggunaan lampu inframerah biasa bukan sahaja merupakan pilihan yang buruk, tetapi juga boleh menyebabkan masalah besar. Sebuah percikan kecil pun sudah cukup untuk menimbulkan masalah yang serius.</p> <p>Itulah sebabnya kami membuat pemanas inframerah ini dengan lapisan khas. Dengan cara ini, komponen elektrik dapat <a href="https://goldisgood.com">dipisahkan</a> daripada udara di sekelilingnya.</p> http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/ Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Lampu untuk proses litografi semikonduktor"></p> <p>Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan bahan photoresist sudah cukup untuk mengubah keseluruhan produk tersebut menjadi bahan buangan. Anda tidak memerlukan haba yang tidak konsisten; apa yang diperlukan ialah haba yang dapat memberikan hasil yang konsisten.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal:</strong><br> Lampu yang digunakan dalam proses litografi ini mengeluarkan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, dengan kawalan spektrum yang tepat. Sinar ini akan sampai ke kawasan yang diserap oleh bahan photoresist, sehingga membolehkan pemanasan yang cepat pada permukaannya. Kestabilan suhu di seluruh kawasan pemanasan adalah antara ±0.1°C, dan prestasi lampu tetap konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain.</p>