<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Litografi on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/ms/tags/litografi/</link>
		<description>Recent content in Litografi on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/ms/tags/litografi/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk proses litografi semikonduktor</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/ms/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk proses litografi semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan bahan photoresist sudah cukup untuk mengubah keseluruhan produk tersebut menjadi bahan buangan. Anda tidak memerlukan haba yang tidak konsisten; apa yang diperlukan ialah haba yang dapat memberikan hasil yang konsisten.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Lampu yang digunakan dalam proses litografi ini mengeluarkan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, dengan kawalan spektrum yang tepat. Sinar ini akan sampai ke kawasan yang diserap oleh bahan photoresist, sehingga membolehkan pemanasan yang cepat pada permukaannya. Kestabilan suhu di seluruh kawasan pemanasan adalah antara ±0.1°C, dan prestasi lampu tetap konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
