Lampu pemanas untuk analisator haba

Sun, 21 Jun 2026 06:23:41 +0800

Di bilik pengeluaran yang canggih ini, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran lembut sudah cukup untuk menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal bahan tersebut, dalam jumlah yang sangat kecil, iaitu dalam skala nanometer. Ini bukanlah sesuatu yang boleh diterima; ia akan menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan. Oleh itu, ketika kita melakukan proses pemanasan, kita tidak boleh bergantung pada tekaan semata-mata. Kita memerlukan pendekatan yang teratur, dan itulah fungsi utama lampu pemanas ini.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Sistem ini menggunakan lampu inframerah gelombang pendek yang dilengkapi dengan unsur kuarsa yang responsif tinggi. Dengan cara ini, haba dapat disalurkan secara langsung ke permukaan filem dan wafer. Kestabilan suhu pada permukaan substrat adalah sekitar ±0.1°C, dan kebolehulangan proses juga sangat baik. Di bilik bersih kelas 1–100, komponen lampu direka sedemikian rupa agar tidak ada zarah debu yang terbentuk, dengan sistem optik yang tertutup dan laluan gas yang minimum. Lampu ini beroperasi 24/7 dengan pengawalan suhu yang tepat. Unit-unit ini telah beroperasi lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%.

Termal on Infrared Heat Element Corporation

Lampu pemanas untuk analisator haba