Lampu pemanas air yang sangat tulen

Mon, 29 Jun 2026 07:10:39 +0800

Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran bahan fotoresist atau pengeringan wafer bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu sahaja. Ia merupakan faktor yang mempengaruhi kualiti produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C pun sudah cukup untuk mengubah dimensi penting pada permukaan wafer. Selain itu, proses pemanasan yang lambat akan menyebabkan penggunaan tenaga yang berlebihan. Lampu pemanas air yang sangat bersih digunakan untuk memastikan suhu tetap stabil sepanjang proses pengeluaran.

Apa yang penting dalam proses ini
Kita menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang terletak dalam selubung kuarsa, agar ia sesuai dengan cara air yang sangat bersih dan bahan fotoresist menyerap tenaga. Dengan cara ini, tenaga dapat disalurkan secara langsung dan cepat, tanpa peningkatan suhu yang berlebihan. Kekonsistenan suhu pada permukaan wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C, dan kebolehulangan proses dapat dipastikan melalui kawalan berpusat di titik penggunaan. Lampu tersebut sesuai digunakan dalam suasana bilik bersih dari kelas 1 hingga 100. Ia tidak menghasilkan sebarang zarah, dan laluan cecairnya juga tertutup rapat agar tidak berlaku kebocoran ion. Lampu ini mampu memberikan output yang stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.

Ultra on Infrared Heat Element Corporation

Lampu pemanas air yang sangat tulen