Piec on Infrared Heat Element Corporation

Piec do czystych pomieszczeń grzejnik podczerwieni

Mon, 20 Jul 2026 11:38:13 +0800

Zachowanie bezpieczeństwa w strefach mycia chemicznego
Bądźmy szczerzy: używanie pieca w pomieszczeniu o wysokim poziomie czystości w strefie mycia chemicznego to coś w rodzaju igry z ogniem. Gdy w powietrzu unoszą się łatwopalne rozpuszczalniki i wybuchowe parы, zwykła lampa podczerwona nie jest tylko złym wyborem – to wręcz zagrożenie. Wystarczy jeden iskra, aby pojawił się poważny problem.

Dlatego nasze grzałki podczerwone są wyposażone w specjalną obudowę. W ten sposób izolujemy elementy elektryczne od otaczającego ich powietrza.

Piec o wysokiej temperaturze do fab labu

Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800

Na stole w laboratorium produkcyjnym proces suszenia fotoopornika nie jest czymś zupełnie zbędnym – to właśnie on zapewnia stabilne warunki termiczne niezbędne do precyzyjnego kształtowania struktury pokrywy krzemowej. Nawet niewielka odchylenie temperatury lub punkty o podwyższonej temperaturze na powierzchni krzemowy mogą doprowadzić do utraty możliwości precyzyjnej produkcji. Stworzyliśmy ten piec o wysokiej temperaturze właśnie po to, aby utrzymać te warunki termiczne przez cały czas pracy.

Co naprawdę istotne Udało nam się osiągnąć jednolitość temperatury na całej powierzchni krzemowego wafera na poziomie ±0,1°C w całym zakresie temperatury. Ponadto system utrzymuje stabilną temperaturę nawet gdy jest dużo obciążenia. W strefie nagrzewania używamy kwarcu oraz promieniowania podczerwonego o krótkiej długości fali, dzięki czemu proces nagrzewania przebiega szybko i można go powtarzać bez żadnych problemów. Profili nagrzewania można dostosować tak, aby uzyskać identyczne wyniki przy każdym cyklu.

Lampa do pieca do litografii półprzewodników

Sat, 27 Jun 2026 04:55:35 +0800

Na linii produkcyjnej wystarczy odchylenie temperatury o 0,5°C podczas procesu wyżarzania fotoopornika, aby cała partia produktów stała się bezużyteczna. Nie potrzebujemy ciepła, które „przewiduje” zmiany temperatury – potrzebujemy ciepła, które zachowuje się przewidywalnie.

Co jest istotne z technicznego punktu widzenia Lampy w naszych piecach do litografii emitują krótkofalowe promieniowanie podczerwone o precyzyjnie kontrolowanej charakterystyce spektralnej – dokładnie tam, gdzie fotoopornik pochłania światło. Dzięki temu dochodzi do szybkiego nagrzewania powierzchni. Równomierność temperatury na całej powierzchni płytki wynosi ±0,1°C, a powtarzalność procesu jest wysoka zarówno pomiędzy poszczególnymi ekspozycjami, jak i pomiędzy różnymi partiami produktów.