<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>IR on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/pt/tags/ir/</link>
		<description>Recent content in IR on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pt</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 24 Jul 2026 11:46:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/pt/tags/ir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sensor IR de precisão para wafer</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/pt/posts/reducing-time-costs-in-semiconductor-wafer-processing-ir-heating-vs-forced-air-convection/</link>
				<pubDate>Fri, 24 Jul 2026 11:46:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/pt/posts/reducing-time-costs-in-semiconductor-wafer-processing-ir-heating-vs-forced-air-convection/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Sensor IR de precisão para wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Por que estamos abandonando o uso de ar forçado em favor do aquecimento por IR no processamento de wafers&lt;br&gt;&#xA;Se você já trabalhou com o processamento de semicondutores, certamente conhece a frustração de ter que esperar. Mais especificamente, espera-se que o wafer atinja a temperatura correta por meio do uso de ar quente.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;O problema é que o ar forçado é muito lento. Na verdade, você está apenas soprando gás quente ao redor do wafer, na esperança de que esse calor seja transferido para ele de forma eficiente. Isso causa um atraso térmico irritante, que acaba prejudicando o ritmo do trabalho.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
