http://ir-heat-element-corp.com/ru/tags/%D0%B2%D0%B0%D0%BA%D1%83%D1%83%D0%BC/ Recent content in Вакуум on Infrared Heat Element Corporation Hugo ru Sat, 18 Jul 2026 04:06:59 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/ru/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/ Sat, 18 Jul 2026 04:06:59 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/ru/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Инфракрасный обогреватель совместимый с вакуумом"></p> <p><strong>Сокращение потерь энергии на стадии полуфабрикатов: правда о инфракрасном нагреве</strong><br> Если мы действительно хотим достичь целей по снижению углеродного следа на производствах полупроводников, нам необходимо прекратить такую большую трату энергии на тепловую обработку. Долгое время все использовали традиционные резистивные нагреватели. Но эти нагреватели крайне неэффективны.</p> <p>Мы перешли на инфракрасные лампы, пригодные для использования в вакууме. Вместо того чтобы нагревать всю вакуумную камеру — что является чистой трата энергии — эти лампы направляют тепло непосредственно на пластину. Это проще.</p> http://ir-heat-element-corp.com/ru/posts/vacuum-chamber-infrared-heater/ Thu, 02 Jul 2026 08:50:54 +0800 http://ir-heat-element-corp.com/ru/posts/vacuum-chamber-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-element-corp.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Инфракрасный нагреватель для вакуумной камеры"></p> <p>В чистой комнате класса 1 на специальную плату помещается кристалл диаметром 300 мм. Регулировка параметров фотополимера осуществляется с учетом температуры, а не по принципу желаемого результата. Даже небольшое изменение температуры на поверхности кристалла на 2°C может привести к смещению слоев, что может лишить производственный процесс результата за целую неделю работы. Мы разработали инфракрасный нагреватель для вакуумной камеры, чтобы исключить необходимость в таких приблизительных расчетах.</p> <p><strong>Что важно внутри устройства</strong><br> Нагреватель использует кварцевые излучатели коротких волн для передачи тепла; время реакции составляет всего несколько миллисекунд. На всей площади активной зоны стабильность температуры составляет ±0,1°C, а точность повторяемости процесса – 0,05°C. Корпус камеры изготовлен из электрополированной нержавеющей стали типа 316L; сварка используется для минимизации выделения газов. Устройство работает в вакууме до уровня 10^-6 мбар. Конструкция камеры обеспечивает отсутствие частиц даже после 5000 часов работы при температуре 250°C. Встроенная пирометрия и система закрытого контроля позволяют поддерживать заданные параметры без перегрузок во время процесса нагрева.</p>