<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Laboratuvar on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/tr/tags/laboratuvar/</link>
		<description>Recent content in Laboratuvar on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/tr/tags/laboratuvar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fab laboratuvarı için yüksek sıcaklıklı fırın</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/tr/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:14:18 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/tr/posts/high-temp-furnace-for-fab-lab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Fab laboratuvarı için yüksek sıcaklıklı fırın&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Fab-lab tezgahlarında, foto direnç malzemesinin ısıtılması sadece bir isteğe bağlı işlem değildir; aslında kritik boyutların korunmasını sağlayan temel bir adımdır. Birkaç derecelik bir sapma veya wafer üzerindeki sıcak noktalar, litografi işlemlerinin başarısını olumsuz etkiler. Bu yüzden bu yüksek sıcaklıkta çalışabilen fırınlar, her seferinde bu koşulların korunmasını sağlamak için tasarlanmıştır.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Asıl önemli olan şeyler&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wafer üzerindeki sıcaklık homojenliği ±0,1°C civarındadır ve yük devredeyken bile ayar noktası stabil kalır. Sıcak bölge, kuvars ve kısa dalga boylu kızılötesi ısıtma teknolojisi kullanılarak ısıtılır; bu sayede ısıtma hızlı ve tekrarlanabilir olur. Hem yumuşak hem de sert ısıtma modları da her seferinde aynı sonuçları verir.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
