<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Хвиля on Infrared Heat Element Corporation</title>
		<link>http://ir-heat-element-corp.com/uk/tags/%D1%85%D0%B2%D0%B8%D0%BB%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Хвиля on Infrared Heat Element Corporation</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:22:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-element-corp.com/uk/tags/%D1%85%D0%B2%D0%B8%D0%BB%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Полупровідникова лампа короткохвильового інфрачервоного випромінювання</title>
				<link>http://ir-heat-element-corp.com/uk/posts/short-wave-infrared-lamp-semiconductor/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:22:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-element-corp.com/uk/posts/short-wave-infrared-lamp-semiconductor/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-element-corp.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Полупровідникова лампа короткохвильового інфрачервоного випромінювання&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні плати може виникнути зміна температури на 0,1°C під час процедури нагрівання фотополімеру. Це призводить до зміни критичних розмірів на рівні нанометрів. Це не є допустимою похибкою – це просто втрата продукту. Ми створили лампи короткочастотного інфрачервоного випромінювання для того, щоб усунути цю невизначеність. Таким чином, однорідність на рівні пластини є обов’язковою характеристикою, а не просто бажаним результатом.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ядром ламп є короткочастотне інфрачервоне випромінювання – його обрали через швидке нагрівання та низьку теплову інерцію. Пік випромінювання збігається з діапазоном поглинання фотополімеру, тож енергія потрапляє безпосередньо в фільм, а не в носії енергії. Це забезпечує однорідність на рівні пластини в межах ±0,1°C для підкладок розміром 150/200/300 мм. Стабільність температури під час процедури нагрівання становить менше 0,5°C.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
