Trong quy trình nung phim quang hóa, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,1°C cũng có thể khiến các kích thước quan trọng của wafer thay đổi vài nanomet. Đó không phải là giới hạn chấp nhận được; đó chính là lý do khiến sản phẩm bị hỏng. Chúng tôi đã thiết kế những chiếc đèn hồng ngoại tia ngắn nhằm loại bỏ yếu tố không ổn định này, để đảm bảo tính đồng đều của wafer ở mức ±0,1°C trên các bề mặt kích thước 150/200/300 mm. Độ ổn định nhiệt độ trong quá trình nung cũng ở mức dưới 0,5°C.
Lớp vỏ bằng thạch anh và cấu trúc phản xạ được thiết kế sao cho giảm thiểu sự tạo ra các hạt bụi, từ đó duy trì môi trường sạch trong khoảng từ Class 1 đến Class 100. Tuổi thọ của đèn lên đến hơn 5.000 giờ, với mức suy giảm cường độ ánh sáng dưới 5%.
Trong quy trình in ấn, điều này có nghĩa là quy trình nung diễn ra chính xác hơn, ít khuyết tật hơn, và việc kiểm soát kích thước wafer cũng dễ dàng hơn. Tốc độ nung và làm nguội nhanh giúp tăng hiệu suất sản xuất mà không làm tăng chi phí năng lượng. Năng lượng tiêu thụ giảm vì đèn chỉ làm nóng vật liệu cần xử lý, chứ không phải toàn bộ buồng nung.
Độ tin cậy của thiết bị được đảm bảo thông qua việc hoạt động liên tục 24/7. Các mô-đun trong thiết bị có thể được thay thế mà không cần ngắt quá trình sản xuất.
Việc lắp đặt khá đơn giản trên các đường ray tiêu chuẩn. Tuy nhiên, cần chú ý đến việc căn chỉnh quang học và việc bảo vệ thiết bị khỏi nhiễu điện từ ở các bộ phận nhạy cảm. Thiết bị cũng có thể kết nối với các bộ điều khiển nhiệt độ và hệ thống an toàn hiện có. Sau đó, cần kiểm tra lại quy trình nung để đảm bảo tính đồng đều của wafer theo thời gian.
Cần thực hiện việc kiểm tra định kỳ các bộ phận phản xạ và làm sạch thạch anh. Đó chính là cách để duy trì tính đồng đều của wafer trong nhiều năm, chứ không chỉ trong vài quý.