
Im Fertigungsprozess reicht bereits eine Temperaturänderung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Photoresists aus, um einen ganzen Produktionslot unbrauchbar zu machen. Man braucht keine unkontrollierte Wärmequelle – man braucht eine Wärmequelle, die sich vorhersagbar verhält.
Was technisch wichtig ist:
Unsere Lithografieöfen nutzen Infrarotstrahlung mit präziser Spektralkontrolle – genau dort, wo der Photoresist die Strahlung aufnimmt. Dadurch kommt es zu einer schnellen Erwärmung der Oberfläche. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur im Trocknungsbereich liegt bei ±0,1 °C. Zudem bleibt die Reproduzierbarkeit von Batch zu Batch konstant.
Die Bauweise der Lampen und Reflektoren ist für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 geeignet. Durch kontinuierliche Überwachung wird sichergestellt, dass keine Partikel entstehen. Die Leistung der Lampen bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil – mit weniger als 5 % Intensitätsabfall. Dadurch bleibt das thermische Verhalten vorhersehbar.
Warum das funktioniert:
Beim Trocknen der Wafern sorgt die schnelle, kontrollierte Heizung dafür, dass die Oberflächenspannung unter Kontrolle bleibt – dadurch wird eine erneute Kontamination während des Abkühlungsprozesses vermieden. Beim sanften Trocknen entfernt das Infrarotlicht den Lösungsmittelanteil, ohne dabei feine Strukturen zu zerstören. Dadurch verbessert sich die Steuerung der Strukturgrenzen.
Beim intensiven Trocknen und Aushärten sorgt dieselbe Lampenarchitektur für eine wiederholbare Vernetzung der Materialien – dadurch entsteht eine zuverlässige Haftung, die für die anschließenden Bearbeitungsschritte sowie das Verpacken notwendig ist. Das Ergebnis: Weniger Nacharbeiten, weniger Ausschuss und konstante Prozesszeiten.
Außerdem wird der Energieverbrauch reduziert. Die Lampe heizt nur das auf, was erhitzt werden muss – mit schnellem Ein- und Ausschalten sowie minimalem Leerlaufenergieverbrauch.
Was man wissen sollte:
Es ist wichtig, dass die Lampen mit dem Lithografieofen oder der Heizplatte kompatibel sind. Nach dem Austausch der Lampe ist eine kurze Anlaufzeit erforderlich, damit die Temperatur wieder stabil wird. Für beste Gleichmäßigkeit muss die Lampe an die spezifische Geometrie des Reflektors und der Kammer angepasst werden – bei inkompatiblen Komponenten verschlechtert sich die Leistung. Nach der Installation sollten Qualifikationstests durchgeführt werden, um das Temperaturprofil und die Partikelfeinstoffmenge zu überprüfen. Anschließend kann das Prozessfenster festgelegt werden.