Di dalam ruang bersih kelas 1 ini, wafer berukuran 300 mm diletakkan di atas piring panas. Suhu yang digunakan untuk memproses wafer tersebut ditentukan oleh suhu tertentu, bukan berdasarkan asumsi semata. Perubahan suhu sebesar 2°C saja sudah cukup untuk mengganggu proses produksi, sehingga hasil produksi selama seminggu bisa hilang begitu saja. Kami merancang pemanas inframerah khusus untuk ruang vakum ini, agar tidak perlu lagi menggunakan metode perkiraan semata.
Yang penting dalam proses ini
Pemanas ini menggunakan emitor kuarsa berfrekuensi tinggi untuk menghasilkan panas secara langsung, dengan waktu respons dalam hitungan milidetik. Di seluruh permukaan wafer, tingkat keseragaman suhu tetap stabil pada angka ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas antar proses produksi mencapai 0,05°C. Badan chamber dibuat dari baja tahan karat tipe 316L yang telah diproses secara elektrik, sehingga meminimalkan emisi gas. Chamber ini juga mampu menciptakan kondisi vakum hingga 10^-6 mbar. Desain chamber yang cocok untuk ruang bersih membuat jumlah partikel di dalamnya tetap nol, bahkan setelah digunakan selama 5.000 jam pada suhu 250°C. Fitur pirametri terintegrasi dan sistem kontrol loop tertutup memastikan bahwa suhu tetap stabil selama proses pemrosesan.
Mengapa hal ini efektif dalam proses pengolahan fotoresist
Kendali suhu sangatlah penting. Pemanas ini mampu menghasilkan profil suhu yang akurat selama proses pemrosesan, sehingga dimensi-dimensi penting pada wafer tetap stabil, dan risiko kerja ulang pun berkurang. Kecepatan pemanasan yang tinggi memperpendek waktu proses, sedangkan massa termal yang rendah meminimalkan penggunaan energi. Dengan demikian, hasil produksi akan lebih konsisten, limbah lebih sedikit, dan waktu pemeliharaan pun dapat direncanakan dengan lebih baik.
Apa yang perlu diperhatikan
Proses pemasangan membutuhkan penyesuaian geometri chamber serta emisivitas bahan pembawa panas. Selain itu, pemanas perlu disetel sesuai dengan beban termal yang ada. Butuh waktu singkat untuk menyetel posisi pirametri dan kecepatan pemanasan. Setelah itu, sistem akan berfungsi dengan baik. Namun, perlu dilakukan inspeksi terhadap emitor setiap tiga bulan sekali, serta kalibrasi tahunan agar tingkat keseragaman suhu tetap pada kisaran ±0,1°C, sehingga proses produksi tetap berjalan sesuai standar yang ditetapkan.