ゾーン制御型赤外線ヒーティングモジュール

リソグラフィ工程においては、フォトレジストの焼成時に0.2°Cの温度変動があるだけで、線幅の制御が乱れ、結果として歩留まりが低下してしまいます。従来のホットプレートでは、熱的な制約の範囲内でウェーハ全体の均一性を維持しようとしますが、それは難しい課題です。一方、ゾーン別の赤外線加熱方式なら、この問...