Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.1°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal komponen tersebut, dalam skala nanometer. Itu bukanlah “toleransi” yang boleh diterima; itu merupakan kegagalan dalam proses pengeluaran. Kami telah mencipta lampu inframerah gelombang pendek untuk mengurangkan ketidakpastian ini, agar keseragaman pada tahap wafer dapat dicapai dengan tepat, bukan sekadar harapan semata-mata.
Lampu inframerah gelombang pendek dipilih kerana ia mampu memanaskan objek dengan cepat, dan mempunyai inersia haba yang rendah. Garis emisi maksimum lampu ini selaras dengan cara bahan fotoresist menyerap tenaga, sehingga tenaga tersebut masuk ke dalam lapisan fotoresist, bukan ke komponen lain. Dengan cara ini, keseragaman pada tahap wafer dapat dicapai dalam lingkungan ±0.1°C, pada substrat berukuran 150/200/300 mm. Stabiliti suhu pula dapat dikekalkan pada tahap kurang dari 0.5°C semasa proses pembakaran.
Struktur kaca kuarsa dan reflektor direka untuk mengurangkan penghasilan zarah-zarah kecil, supaya jumlah zarah di bilik bersih tetap stabil dalam lingkungan kelas 1–100. Prestasi lampu ini dapat bertahan lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan intensiti cahaya kurang dari 5%.
Dalam proses litografi, ini bermakna proses pembakaran dapat dilakukan dengan lebih tepat, mengurangkan kecacatan, dan membolehkan kawalan yang lebih baik terhadap dimensi komponen. Proses pemanasan dan penyejukan yang lebih cepat dapat meningkatkan kelajuan pengeluaran, tanpa menambah beban haba. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana lampu hanya memanaskan objek yang diinginkan, bukan seluruh ruang di sekelilingnya.
Ketahanan lampu ini direka untuk beroperasi 24/7. Modul lampu ini juga boleh diganti secara mudah, supaya gangguan operasi tidak akan menyebabkan penghentian proses pengeluaran.
Pemasangan lampu ini sangat mudah, namun perlu diberi perhatian terhadap penyesuaian optik dan perlindungan daripada gangguan elektromagnetik di kawasan sensitif. Lampu ini perlu disambungkan ke sistem kawalan suhu yang ada, dan profil pembakaran perlu disahkan agar sesuai dengan spesifikasi bahan fotoresist yang digunakan.
Perlu juga dilakukan pemeriksaan berkala pada reflektor dan pembersihan kaca kuarsa. Dengan cara ini, keseragaman komponen dapat dikekalkan dari masa ke masa, bukan hanya untuk jangka masa singkat sahaja.