Di bawah proses litograf, perubahan suhu sebanyak 0.2°C semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk merosakkan kawalan ketebalan garis pada permukaan wafer, dan seterusnya menurunkan kadar pengeluaran yang berkualiti. Kaedah pemanasan konvensional mempunyai kesukaran untuk mengekalkan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer sambil tetap berada dalam julat suhu yang ditetapkan. Penggunaan sistem pemanasan inframerah yang terbahagi kepada zon-zon merupakan penyelesaian yang efektif.
Apa yang penting di sebaliknya
Modul IR yang digunakan ini menggunakan unsur-unsur NIR yang dikawal secara berasingan untuk mengawal suhu di setiap zon, sekali gus membetulkan perbezaan suhu antara bahagian tepi dan bahagian tengah wafer. Ini memastikan keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, serta memastikan kestabilan suhu yang tinggi agar proses pemanasan dapat berjalan dengan sempurna. Perangkat keras ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih darjah 1–100: bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, komponen optik yang tertutup rapat, serta reka bentuk yang membantu mengurangkan kehadiran zarah-zarah di udara. Anda boleh mengharapkan tiada penghasilan zarah semasa proses pemanasan, serta kestabilan suhu jangka panjang yang memastikan kualiti produk tetap konsisten.
Mengapa ia sesuai untuk digunakan dalam pengeluaran
Modul ini membolehkan kawalan proses yang tepat. Proses pemanasan yang dilakukan dapat diulang dengan ketepatan yang tinggi, sehingga mengurangkan jumlah kerja pembaikan dan meningkatkan kadar pengeluaran. Tindak balas haba yang cepat memungkinkan masa proses dipendekkan tanpa mengorbankan ketepatan proses tersebut. Tenaga hanya digunakan di tempat yang diperlukan, sekaligus mengurangkan kos operasi. Jumlah wafer yang rosak berkurangan, amaran yang timbul juga berkurangan, dan proses pemanasan dapat berjalan secara berterusan tanpa gangguan yang tidak dijangka.
Butiran praktikal
Proses pemasangan modul ini melibatkan penyelarasan saiznya dengan ruang yang ada dalam bilik pemanasan, serta penyambungan ke antaramuka gas dan kuasa yang sedia ada. Kami menyediakan pelan antaramuka dan protokol pengesahan yang diperlukan. Modul ini boleh digunakan bersama alat-alat pengendalian wafer biasa, namun ia tidak sesuai untuk digunakan dalam proses pemanasan yang memerlukan kaedah pemanasan secara langsung atau menggunakan cecair. Adalah disarankan untuk melakukan ujian awal untuk menentukan parameter pemanasan yang sesuai untuk keperluan khusus kilang anda, serta untuk memastikan keseragaman suhu pada semua jenis wafer yang digunakan.