Op de productiehal is het al voldoende dat één stap in het droogproces niet volgens de specificaties verloopt, om een hele lading producten te beïnvloeden. De temperatuur wordt ongelijkmatig, het profiel van de fotoresist verandert en de opbrengst neemt af. We hebben deze goedkope lamp ontworpen om deze problemen vanaf het begin tegen te gaan.
Wat technisch belangrijk is: Het gaat om een NIR-lamp met een stabiele kwartsomhulling en een passend filament. Hierdoor is de uitstroom van energie consistent, ongeacht of het gaat om het drogen van wafers, het zacht of hard drogen van de fotoresist. Het spectrale profiel zorgt er juist voor dat de energie wordt toegediend op de plekken waar de fotoresist dit het beste kan absorberen. Hierdoor blijft het substraat koel. De temperatuurvariatie blijft binnen ±0,1°C, en er wordt nauwelijks vuil gegenereerd in zuiverruimten van klasse 1–100. De uitstroom van energie blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% daling.
Waarom het werkt in de lithografie: In de lithografie zorgt het zachte drogen ervoor dat de lijndikte goed kan worden geregeld. De NIR-lamp brengt de fotoresist snel en gelijkmatig op temperatuur, zodat de oplosmiddelen gemakkelijk kunnen verdwijnen, zonder dat er oneffenheden ontstaan. Dezelfde lamp kan ook worden gebruikt om wafers na het reinigen te drogen, zonder dat er sporen achterblijven. Bovendien kan de lamp worden gebruikt voor het harden van de fotoresist, zonder dat deze te veel wordt verhit. Hierdoor wordt de uniformiteit van de lijnen beter, zijn er minder herwerkjes nodig en zijn de cyclustijden voorspelbaar.
Energiebesparing: De lamp heeft een hoge intensiteit, dus er moet goed worden geëngageerd met afscherming en veiligheidsmaatregelen. Met een goede alignering en schone contactpunten kan de lamp direct worden gebruikt in bestaande apparaten, zodat de procesparameters behouden blijven.