Üretim alanında, katı hal batarya wafer’lerinin üretimi sırasında termal değişimler için yer yoktur. Bir derece bile farklılık gösteren ısıtma işlemleri, ürünler arasında kalite farklılıklarına yol açar; aşırı ısıtma ise ürünlerin şeklinin bozulmasına neden olur. Biz ise, litografi ve kurutma işlemlerinin belirlenen sıcaklık aralıkları içinde gerçekleşmesini sağlamak için kendi kızılötesi ısıtıcılarımızı geliştirdik.
Asıl önemli olan, kanıtlanabilir bir kontrol mekanizmasının olmasıdır. Kısa dalga boyundaki kızılötesi ışınlar, enerjiyi hızla ince filmlere ve yüzeylere aktarır; aktif bölgede sıcaklık uniformitesi ±0,1°C civarındadır. Sıcaklık tekrarlanabilirliği ise ±0,5°C düzeyindedir. Böylece, yumuşak ısıtma, sert ısıtma ve uygulamadan sonraki ısıtma işlemleri istenen standartlarda gerçekleşir ve yeniden işlem yapmaya gerek kalmaz. Bu cihaz, Class 1–100 temiz oda koşullarında kullanılabilir; ayrıca çalışma sırasında hiçbir parçacık üretmez. Cihaz, 7/24 güvenilirlik için tasarlanmıştır ve uzun süreli kullanım için gerekli olan veriler mevcuttur.
Bunun nedeni şudur: İşlem süreci oldukça dar ve üretim süresi oldukça maliyetlidir. Hedef sıcaklığa daha hızlı ulaşılır, kritik boyutlar daha iyi kontrol edilir ve aşırı veya yetersiz ısıl işlem sonucu oluşan atıklar azalır. Kızılötesi ışınlar, çerçevenin etrafını değil, hedef alanı ısıttığı için enerji tüketimi azalır. Isı profili ürün karışımına bağlı olarak sabit kalır ve böylece üretim süresi artar.
Pratik bir ipucu: Kızılötesi ısıtmanın performansı, malzemenin emisyon ve yansıtma özelliklerine bağlıdır. Kaplı yüzeyler ve çok katmanlı yapılar için, doğru ayarların yapılabilmesi için hızlı bir termal test gereklidir. Ayarlar belirlendikten sonra sistem, minimum sapmayla bu profilü korur. Ancak tutarlı sonuçlar elde etmek için bu ilk test şarttır.