Berhentilah Menunggu Proses Pemanasan dengan Oven Konvensional: Mengapa Pemanasan IR Lebih Efektif
Jika Anda masih menggunakan sistem pemanasan berbasis udara panas untuk proses pengolahan semikonduktor, berarti Anda membuang waktu setengah hari hanya untuk menunggu proses pemanasan selesai.
Coba bayangkan bagaimana cara kerja pemanasan udara panas. Udara dipanaskan terlebih dahulu, lalu udara tersebut digunakan untuk memanaskan wafer. Ini merupakan proses yang lambat. Sama seperti mencoba menghangatkan suatu ruangan dengan menggunakan pengering rambut yang diarahkan ke dinding.
Pemanasan inframerah (IR) berbeda. Sistem ini menggunakan energi radiasi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Tidak perlu ada perantara, dan tidak perlu menunggu udara “menyusul”.
Biaya yang harus dibayar akibat menunggu
Siapa saja yang pernah menggunakan oven konvensional pasti tahu betapa menyebalkannya harus menunggu proses pemanasan selesai. Anda menetapkan suhu yang diinginkan, lalu… menunggu terus-menerus.
Dengan lampu IR, proses pemanasan dapat dilakukan dalam beberapa detik saja. Perbedaan ini sangat signifikan terhadap waktu yang dibutuhkan untuk proses pengolahan. Hal ini sangat penting, terutama saat proses pengeringan atau degasifikasi. Jika Anda tidak bisa meningkatkan suhu dengan cepat, wafer bisa rusak, dan Anda akan menghadapi masalah serius.
Kekurangan dari sistem pemanasan IR
Hal positifnya adalah ukuran perangkat yang lebih kecil. Anda tidak perlu menggunakan blower besar yang bising dan saluran udara yang rumit. Anda hanya perlu menghubungkan lampu IR ke sistem kelistrikan, menyesuaikan jaraknya dengan tepat, lalu proses pemanasan pun dapat dimulai.
Namun, Anda perlu berhati-hati. Karena sistem IR sangat cepat, mudah sekali terjadi overheating jika posisi lampu tidak tepat. Anda juga membutuhkan kontroler PID yang mampu mengikuti kecepatan pemanasan tersebut. Jika tidak, suhu bisa melebihi batas yang ditentukan sebelum Anda menyadarinya.
Mengapa semua orang beralih ke sistem pemanasan IR
Intinya, sistem IR memungkinkan proses pemanasan berlangsung lebih cepat. Selain itu, panas yang dihasilkan lebih merata di seluruh permukaan wafer. Anda tidak perlu lagi berjuang melawan arus udara yang tidak stabil atau membuang-buang energi untuk memanaskan bagian logam dari mesin tersebut. Energi dialokasikan tepat ke tempat yang dibutuhkan.
Jika fasilitas produksi Anda masih bergantung pada oven konvensional, berarti Anda sedang membuang uang. Beralih ke sistem IR bukanlah tentang peningkatan teknologi yang rumit, tetapi tentang meningkatkan kecepatan proses pengolahan wafer. Dengan demikian, hasil produksi akan lebih banyak, biaya per wafer akan lebih rendah, dan waktu yang diperlukan untuk menunggu proses selesai juga akan berkurang.