Di dalam bilik bersih kelas 1 ini, wafer berukuran 300mm akan diletakkan di atas piring panas. Suhu yang digunakan untuk memproses wafer tersebut ditentukan oleh suhu sebenar, bukan berdasarkan anggaran semata-mata. Perubahan suhu sebanyak 2°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu proses pengeluaran wafer, dan boleh merosakkan hasil kerja yang telah dihasilkan selama seminggu. Kami telah membina pemanas inframerah khusus untuk bilik vakum ini, agar tiada lagi unsur ketidakpastian dalam proses pengeluaran wafer.
Apa yang penting dalam sistem ini
Pemanas ini menggunakan pengeluar haba jenis kuarsa berfrekuensi tinggi, sehingga haba dapat disalurkan dengan cepat, dalam masa beberapa milisaat sahaja. Kekonsistenan suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala kebolehulangan proses pengeluaran adalah sekitar 0.05°C. Badan bilik vakum ini diperbuat daripada keluli tahan karat 316L yang telah diproses secara elektropolishing, agar gas tidak terlepas keluar. Tekanan vakum yang dicapai adalah sekitar 10^-6 mbar. Reka bentuk bilik bersih ini memastikan tiada zarah debu terbentuk, walaupun selepas 5,000 jam operasi pada suhu 250°C. Sistem kawalan termal yang canggih memastikan suhu tetap stabil semasa proses pengeluaran wafer.
Mengapa sistem ini berkesan dalam proses pemprosesan fotoresist
Kontrol suhu sangat penting dalam proses ini. Pemanas ini memberikan profil suhu yang tepat untuk proses pengeluaran wafer, sehingga dimensi wafer dapat dipertahankan dengan baik, dan meminimumkan keperluan untuk memproses semula wafer tersebut. Kelajuan pemanasan yang tinggi memendekkan masa yang diperlukan untuk proses pengeluaran, sementara massa haba yang rendah pula membantu mengurangkan penggunaan tenaga. Dengan cara ini, hasil pengeluaran wafer akan lebih konsisten, dengan jumlah sisa yang lebih sedikit, dan masa penyelenggaraan yang lebih mudah dirancang.
Apa yang perlu diambil kira
Semasa pemasangan, perlu memastikan geometri bilik vakum sesuai dengan pengeluar haba yang digunakan, serta menyesuaikan suhu pemanas agar sesuai dengan beban haba yang diperlukan. Proses penyesuaian awal diperlukan untuk menetapkan kedudukan pengukur suhu dan kadar pemanasan. Setelah itu, sistem akan berfungsi dengan baik. Namun, pemeriksaan berkala terhadap pengeluar haba serta penalaan tahunan diperlukan untuk memastikan kekonsistenan suhu pada tahap ±0.1°C, agar proses pengeluaran tetap berjalan lancar.