Trong phòng sạch hạng 1 này, các tấm wafer kích thước 300mm được đặt lên bề mặt nóng. Việc điều chỉnh nhiệt độ để xử lý wafer được thực hiện thông qua việc kiểm soát nhiệt độ chính xác, chứ không phải dựa vào suy đoán. Chỉ cần nhiệt độ thay đổi 2°C thôi cũng có thể khiến các lớp vật liệu trên wafer bị ảnh hưởng, từ đó làm mất đi kết quả công việc sau một tuần lao động. Chúng tôi đã thiết kế bộ sưởi bằng tia hồng ngoại trong buồng chân không nhằm loại bỏ yếu tố ngẫu nhiên này.
Những yếu tố quan trọng Bộ sưởi này sử dụng các bộ phát tia cực tím để tạo ra nhiệt trực tiếp, với tốc độ phản ứng trong vài miligiây. Độ đồng đều của nhiệt độ trên bề mặt wafer được duy trì ở mức ±0,1°C, còn độ lặp lại giữa các lần xử lý là 0,05°C. Thân buồng được làm từ thép không gỉ loại 316L, được hàn kín để giảm thiểu khí thoát ra ngoài. Buồng chân không này có khả năng duy trì áp suất ở mức 10^-6 mbar. Cấu trúc của buồng sạch giúp loại bỏ hoàn toàn các hạt bụi, ngay cả sau 5.000 giờ hoạt động ở nhiệt độ 250°C. Hệ thống kiểm soát nhiệt độ tự động giúp duy trì nhiệt độ ổn định trong suốt quá trình xử lý.
Tại sao phương pháp này hiệu quả trong quy trình xử lý vật liệu phơi sáng Ngân sách nhiệt trong quy trình này rất hạn chế. Bộ sưởi này giúp tạo ra các mức nhiệt độ chính xác cho quá trình xử lý, từ đó giúp ổn định các kích thước quan trọng của wafer và giảm thiểu việc phải làm lại sản phẩm. Tốc độ gia nhiệt nhanh giúp rút ngắn thời gian xử lý, còn khối lượng nhiệt thấp giúp giảm mức tiêu thụ năng lượng. Kết quả là chất lượng sản phẩm luôn ổn định, ít rác thải, ít lỗi phát sinh, và thời gian bảo trì cũng được kiểm soát chặt chẽ.
Những yếu tố cần lưu ý Việc lắp đặt bộ sưởi đòi hỏi phải phù hợp với cấu trúc của buồng chân không và độ phát xạ của vật liệu được sử dụng. Sau đó, cần điều chỉnh bộ sưởi sao cho phù hợp với mức nhiệt cần thiết. Cần có thời gian kiểm tra ban đầu để điều chỉnh chính xác vị trí của bộ phát tia và tốc độ gia nhiệt. Một khi đã được điều chỉnh xong, hệ thống sẽ hoạt động ổn định. Tuy nhiên, cần kiểm tra bộ phát tia hàng quý và điều chỉnh lại hàng năm để duy trì độ đồng đều nhiệt độ ở mức ±0,1°C, giúp quy trình xử lý diễn ra đúng tiêu chuẩn.