装置を加熱するのはやめよう：熱フラックスを適切に管理するためのより良い方法 半導体製造工場では、常に課題があります。ウェーハを十分に高温にする必要がある一方で、装置全体がオーブンのようになってしまっては困ります。 一般的な赤外線ランプは、熱を全方位に放出してしまいます。これは無駄なことです。さらに...

漏れを防ぐために：なぜ誘電体の特性が重要なのか 半導体業界では、わずかな電気的漏れだけで、一括りのウェーハ全体が廃棄されてしまうこともあります。これは本当に恐ろしい状況です。高電圧の加熱素子を使用している場合、サーモカップルは単なる受動的なセンサーではなく、システム全体を崩壊させる可能性のある弱点...

クリーンルーム用のトロリー式ヒーターの温度を適切に制御する方法 もしスマートな製造施設を構築しようとしているのであれば、完全にデータ駆動型の生産環境を実現したいと思っているはずです。しかし問題は、従来の対流式ヒーターではそのような環境を実現するのが難しいということです。加熱に時間がかかり、また空気...

製造現場では、フォトレジストの焼成中に0.5°Cもの温度変動があれば、生産された製品全体が廃棄処分になってしまいます。不確かな加熱では不十分です。確実に所定の温度を維持できる加熱システムが必要です。 技術的に重要な点 当社のリソグラフィーオーブン用ランプは、フォトレジストが吸収する波長域において、...

ファブ内では、フォトレジストの焼成時に0.1℃の変動があるだけで、重要な寸法がナノメートル単位で変わってしまいます。これは「許容範囲」というものではなく、製品として不合格となります。私たちは、このような不確実性を排除するために短波長赤外線ランプを開発しました。そうすることで、ウェーハ全体の均一性が...