리소그래피 공정에서는 포토레지스트를 가열할 때 0.2°C만의 온도 변동이라도 회로선의 선관경 제어를 망가뜨리고 생산 효율을 떨어뜨릴 수 있습니다. 기존의 히팅 판들은 열적 한계 내에서 웨이퍼 전체의 온도 균일성을 유지하려고 노력합니다. 하지만 구역별 적외선 가열 방식이라면 이 문제를 간단히 해결할 수 있습니다.
내부 작동 원리 저희의 구역별 적외선 모듈은 개별적으로 제어되는 NIR 소자를 사용하여 웨이퍼의 각 부분의 온도를 정확하게 조절합니다. 그 결과, 웨이퍼 전체에 걸쳐 ±0.1°C 수준의 일정한 온도가 유지되며, 설정된 온도를 정확하게 유지할 수 있습니다. 이러한 하드웨어는 클린룸 클래스 1–100 환경에 적합하도록 설계되었습니다. 즉, 가스 배출이 적은 재료와 밀폐된 광학 부품, 그리고 입자 발생을 최소화하는 구조를 가지고 있습니다. 따라서 가열 과정에서 입자가 전혀 생성되지 않으며, 장기적으로도 안정적인 성능을 유지할 수 있습니다.
생산 환경에서의 장점 이 모듈은 측정 가능한 수준의 공정 제어 기능을 제공합니다. 소프트 베이크와 하드 베이크 과정도 오차 없이 반복될 수 있어 재작업 비용이 줄고 생산 효율이 향상됩니다. 또한 열 반응 속도가 빠르므로 공정 시간을 단축할 수 있으면서도 공정의 정확성은 그대로 유지됩니다. 에너지도 필요한 곳에만 사용되므로 단위당 운영 비용이 절감됩니다. 불필요한 웨이퍼 폐기가 줄어들고, 알람도 적어집니다. 또한 24/7 연속 가동해도 문제가 없습니다.
실제 설치 방법 설치는 챔버의 크기에 맞게 조정하고 기존의 가스 및 전력 인터페이스와 연결하는 것만으로 충분합니다. 저희는 관련된 도면과 검증 프로토콜을 제공합니다. 이 모듈은 일반적인 웨이퍼 처리 공정에 적합하지만, 직접적인 침수나 습식 처리에는 적합하지 않습니다. 현장에 맞는 가열 프로세스를 설정하고, 다양한 제품에 대한 온도 균일성을 확인하기 위해 간단한 테스트를 진행해야 합니다.