구역별 적외선 가열 모듈

리소그래피 공정에서는 포토레지스트를 가열할 때 0.2°C만의 온도 변동이라도 회로선의 선관경 제어를 망가뜨리고 생산 효율을 떨어뜨릴 수 있습니다. 기존의 히팅 판들은 열적 한계 내에서 웨이퍼 전체의 온도 균일성을 유지하려고 노력합니다. 하지만 구역별 적외선 가열 방식...