Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan bahan photoresist sudah cukup untuk mengubah keseluruhan produk tersebut menjadi bahan buangan. Anda tidak memerlukan haba yang tidak konsisten; apa yang diperlukan ialah haba yang dapat memberikan hasil yang konsisten.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Lampu yang digunakan dalam proses litografi ini mengeluarkan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, dengan kawalan spektrum yang tepat. Sinar ini akan sampai ke kawasan yang diserap oleh bahan photoresist, sehingga membolehkan pemanasan yang cepat pada permukaannya. Kestabilan suhu di seluruh kawasan pemanasan adalah antara ±0.1°C, dan prestasi lampu tetap konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain.
Reka bentuk badan lampu dan reflektor dipilih agar sesuai digunakan dalam bilik bersih tahap Class 1–100. Tidak ada zarah debu yang terhasil, seperti yang dapat dikesan melalui pemantauan secara langsung. Keluaran cahaya lampu tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan intensiti kurang dari 5%. Dengan ini, jumlah tenaga yang digunakan boleh diramalkan dengan tepat.
Mengapa ia berkesan:
Dalam proses pengeringan wafer, pulsa pemanasan yang cepat dan terkawal membantu mengawal tegangan permukaan, sekaligus mencegah berlakunya kontaminasi semula semasa proses penyejukan. Dalam proses pemanasan yang lembut, sinar inframerah membantu menghilangkan pelarut tanpa merosakkan struktur halus pada permukaan wafer, sekaligus meningkatkan kawalan ketebalan garis pada permukaan wafer.
Untuk proses pemanasan yang intensif, reka bentuk lampu yang sama memastikan proses pengikatan antara komponen-komponen berlaku secara konsisten, sehingga kekuatan ikatan antara komponen-komponen tersebut dapat diharapkan untuk langkah-langkah pembuatan seterusnya serta proses pembungkusan. Akibatnya, terdapat lebih sedikit kerja ulang, jumlah bahan buangan berkurangan, dan masa proses menjadi lebih konsisten.
Penggunaan tenaga juga berkurangan. Lampu hanya memanaskan bahagian yang memerlukan pemanasan sahaja, dengan respons yang cepat dan penggunaan tenaga yang minimum.
Perkara yang perlu diketahui:
Penyesuaian lampu dengan peralatan yang digunakan adalah sangat penting. Pastikan bahawa bahagian lampu, asasnya, dan sambungan kabelnya sesuai dengan oven litografi atau plat panas yang digunakan. Selepas menukar lampu, biasanya diperlukan masa singkat untuk memulihkan kestabilan suhu dan konsistensi proses.
Untuk mendapatkan keseragaman yang maksimum, lampu perlu disetkan agar sesuai dengan reka bentuk reflektor dan ruang proses yang digunakan. Jika komponen yang digunakan tidak sesuai, prestasi lampu akan menurun. Selepas pemasangan, lakukan ujian untuk memastikan profil suhu dan jumlah zarah debu berada dalam batas yang ditetapkan, kemudian tetapkan nilai-nilai tersebut sebagai standard proses.