ファブフロアでは、90℃で±0.5℃のドリフトがあるソフトベイクはCDの均一性を乱し、歩留まりを低下させる。温度は単なる背景の調整項目ではなく、フォトレジストの挙動、付着性、そしてパターンの後工程での保持性を決定する。熱制御が不安定になると、検査での欠陥や再作業の増加として即座に現れる。
内部で重要なポイント
当社はNIR光源を用いた高精度赤外線ヒーターを開発し、エネルギーをシリコンおよびフォトレジスト積層体に直接投入している。ベイク面全体でウェーハレベルの均一性±0.1℃を目標とし、設定温度は数秒で安定する（数分ではない）。クリーンルームクラス1～100に対応するため、低アウトガス材料と粒子制御設計を採用し、定常状態では粒子発生をゼロに維持する。コントローラーは熱予算を厳密に管理し、統計的工程管理と整合する再現性を確保している。
なぜリソグラフィーに適用されるか
一貫したソフトベイクおよびハードベイクプロファイルにより、サイクルタイムの短縮とスクラップ削減が可能になる。より厳密なCD制御、フッティングやスカム欠陥の減少、安定した露光量ウィンドウが得られる。NIR素子は必要に応じて加熱するため、エネルギー消費が低減し、ウォームアップが最小限で済み、余分なチャンバー質量による熱容量の影響がない。稼働率が重要であり、本装置は24時間365日連続運転で計画外停止がなく、サービスも緊急対応ではなく定期予防保守で対応可能である。
注意すべきポイント
統合は容易だが、ヒーターは±0.1℃の均一性を維持するためにマッチした取り付け面と安定した電圧が必要である。チャックへの熱結合を確実に行い、コントローラーがクリーンで低ノイズのセンサー信号を受け取ることを確認する。ウェーハ表面の放射率に大きなばらつきがある場合は、ゾーン補正の調整が必要になることがある。設置仕様と較正手順は提供しており、導入時に仕様内に収まるようサポートする。