Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran bahan fotoresist atau pengeringan wafer bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu sahaja. Ia merupakan faktor yang mempengaruhi kualiti produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C pun sudah cukup untuk mengubah dimensi penting pada permukaan wafer. Selain itu, proses pemanasan yang lambat akan menyebabkan penggunaan tenaga yang berlebihan. Lampu pemanas air yang sangat bersih digunakan untuk memastikan suhu tetap stabil sepanjang proses pengeluaran.
Apa yang penting dalam proses ini
Kita menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang terletak dalam selubung kuarsa, agar ia sesuai dengan cara air yang sangat bersih dan bahan fotoresist menyerap tenaga. Dengan cara ini, tenaga dapat disalurkan secara langsung dan cepat, tanpa peningkatan suhu yang berlebihan. Kekonsistenan suhu pada permukaan wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C, dan kebolehulangan proses dapat dipastikan melalui kawalan berpusat di titik penggunaan. Lampu tersebut sesuai digunakan dalam suasana bilik bersih dari kelas 1 hingga 100. Ia tidak menghasilkan sebarang zarah, dan laluan cecairnya juga tertutup rapat agar tidak berlaku kebocoran ion. Lampu ini mampu memberikan output yang stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.
Mengapa ia sesuai untuk proses pengeluaran
Dalam proses pengeringan wafer, lampu ini dapat memendekkan masa proses sambil memastikan permukaan wafer tetap bersih. Dalam proses litografi, ia membantu mengawal suhu dengan lebih baik, sehingga mengurangkan masalah yang timbul akibat perbezaan suhu. Dalam proses pembungkusan, ia mempercepatkan proses pengeringan tanpa merosakkan sifat melekat bahan tersebut. Dalam proses pembersihan dan pengeringan, sistem ini dapat mengeringkan struktur wafer tanpa perlu proses penyebaran semula bahan, sekali gus mengurangkan pembaziran dan kerja-kerja pembaikan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba disalurkan terus ke proses pengeluaran, bukan ke ruang sekeliling.
Apa yang perlu diperhatikan
Lampu ini boleh dipasang pada sistem pengeringan yang sedia ada, tetapi penyesuaian sudut lampu terhadap permukaan wafer sangat penting untuk memastikan konsistensi suhu. Proses pelancaran lampu ini memerlukan masa yang singkat untuk menetapkan parameter seperti aliran tenaga, kepadatan tenaga, dan suhu yang diinginkan. Kuarsa yang digunakan memang tahan lama, namun ia masih memerlukan rawatan yang teliti serta pemeriksaan berkala untuk memastikan prestasinya tetap optimal.