OLEDラインにおいて、乾燥は一時停止ではなく、制御ポイントである
ウェーハはリンス後にリソース面を安定させる必要がある。フォトレジストが乾燥不足だとエッジビードが発生し、オーバーレイがずれ始める。ベイクが均一でなければ、ライン幅の分布が広がり、歩留まりが低下する。こうしたばらつきをプロセスから排除するために、当社は赤外線乾燥ランプを開発した。
技術的に重要な点
ショートウェーブ赤外線発光体を、高応答フィラメントと石英光学系と組み合わせて使用し、フォトレジスト層へ直接エネルギーを投入している。システムはベイクフィールド全体でウェーハ温度の均一性を±0.1℃以内に保持し、熱予算のロット間変動を抑制する。
ソフトベイクのプロファイルは狭い許容範囲内で再現され、ハードベイクの移行もクリーンでオーバーシュートがない。クリーンルーム対応も考慮されており、低発ガス材料、密封ハウジング、管理されたエアフロー経路により粒子発生はほぼゼロに抑えられている。
OLEDに適合する理由
OLED積層は薄く感度が高く、スケジュールに余裕がない。ランプは乾燥とベイクの時間を短縮しつつもプロファイルを維持するため、サイクルタイムを減らせるがフィルム厚管理に影響を与えない。
必要な部分に熱を集中させるため、チャンバー壁面には熱がかからず、エネルギー消費も抑えられる。信頼性は稼働率に関わり、ユニットは5,000時間以上稼働して出力低下が5%未満に抑えられているため、作業中断や予防交換の頻度が減る。
押さえておくべきポイント
設置はランプの設置面積をトラックポートに合わせ、照射強度のプロファイルをウェーハサイズに調整することに尽きる。ランプ出力は間隔に敏感で、推奨範囲外だと均一性が損なわれる。
調整のための短期間の試運転が必要となるが、一度キャリブレーションが完了すれば日常的な計測によってプロセスは安定して維持される。